报告题目：表面分析技术（XPS/UPS/LEIPS）及应用

报告人：鞠焕鑫 博士

邀请人：陈永华 教授

报告时间：10月10日（星期四）9:00

报告地点：科技创新大楼C501

摘要

近年来随着科学技术的飞速发展，先进的表面分析技术已经成为材料、能源、催化、微电子以及半导体产业等领域中开展表面特性研究所必需的实验技术。在科学研究和产业领域，具备微区分析功能的表面分析技术对解决复杂问题具有重要的作用。例如先进的扫描聚焦式多功能XPS分析设备集成了多项表面分析技术（XPS-UPS-IPES-GCIB），可以提供包括芯能级、价带和导带的全面电子结构信息，并具备微区分析能力(<10 um)，同时结合溅射离子源实现了逐层解析的深度分析能力，为表面特性研究提供强有力的技术支持。

在本报告中，鞠焕鑫博士将讲述能谱技术（XPS/UPS/LEIPS）的基本原理及其相关技术特，深度分析技术（Ar+/GCIB）的原理和技术特点，讲解数据处理过程包括谱图定量分析、化学态解析以及谱图拟合等内容，并结合具体研究事例介绍表面分析技术在材料/能源领域的应用。欢迎感兴趣的老师和同学来听报告，并就能谱技术问题开展深入的交流与探讨。

个人简介

鞠焕鑫博士，PHI (China) Limited 高德英特(北京)科技有限公司应用科学家。2009年-2014年于中国科学技术大学获得学士和博士学位。2012-2103年在美国华盛顿大学（西雅图）化学系David Ginger教授课题组联合培养。2016年6月-2018年10月，中国科学技术大学国家同步辐射实验室副研究员，负责中国科学技术大学国家同步辐射实验室催化与表面科学实验站的运行管理，主要从事软X射线谱学方法学研究以及能源材料/器件界面电子性质研究。在学术研究方面与用户合作在NatureChemistry, Nature Energy, J. Am. Chem. Soc., Angew. Chem. Int. Ed, Adv. Mater,AdvFunct Mater等期刊发表学术论文80余篇；主持/参与国家自然科学基金委青年科学基金、大科学装置联合基金培育项目和重点项目、国家重点研发计划等多个国家级科研项目。2018年11月，加入PHI (China) Limited 高德英特(北京)科技有限公司，担任应用专家，负责PHI CHINA南京实验室的创建以及运行管理。